本文作者:趙微 博士
電致化學發(fā)光(electrogenerated chemiluminescence,ECL),又稱電化學發(fā)光,源于電化學反應(yīng)電子傳遞過程中將電能轉(zhuǎn)化為輻射能的過程。發(fā)光分子在電極表面經(jīng)過氧化還原過程生成激發(fā)態(tài),進而退激產(chǎn)生發(fā)光。
針對電致化學發(fā)光的詳細研究始于二十世紀六十年代,隨著電子技術(shù)以及高靈敏的光電傳感器如光電倍增管、單光子計數(shù)器的出現(xiàn),電致化學發(fā)光傳感得到了迅猛發(fā)展。電化學發(fā)光成像具有低背景、無光熱效應(yīng)、高通量、高時間分辨率、可控性好等優(yōu)點,為研究微納界面電化學反應(yīng)過程提供了極具發(fā)展?jié)摿Φ募夹g(shù)手段。這種成像技術(shù)在能源、材料及生命分析領(lǐng)域,具有卓越的應(yīng)用前景。
1. 電致化學發(fā)光原理
電致化學發(fā)光是一種在電極表面通過電化學引發(fā)的特異性化學發(fā)光反應(yīng)[1]。在外加電激勵下,電極表面首先發(fā)生電化學反應(yīng)并產(chǎn)生化學發(fā)光所需的活性中間體,隨后中間體之間或者中間體與共反應(yīng)劑提供的高能自由基之間相互作用,形成激發(fā)態(tài)物種,進一步退激產(chǎn)生發(fā)光。根據(jù)發(fā)光機理的不同,ECL現(xiàn)象被分為“湮滅型”和“共反應(yīng)劑型”兩種途徑[2]。1.1 湮滅型ECL
如圖1所示,在湮滅型 ECL 中,通過施加雙向電刺激,反應(yīng)體系內(nèi)分別產(chǎn)生發(fā)光物種的氧化態(tài)和還原態(tài)中間體,兩種中間體反應(yīng)生成高能激發(fā)態(tài)分子,進一步退激至基態(tài)產(chǎn)生發(fā)光。
1.2 共反應(yīng)劑型ECL
相較于湮滅型ECL,共反應(yīng)劑型ECL通常具有更高的發(fā)光效率,因此電致化學發(fā)光發(fā)光成像通;诖朔N模式。
共反應(yīng)劑型ECL只需施加單向電位。該體系中的共反應(yīng)劑提供了高能自由基,這些自由基能夠與發(fā)光體反應(yīng),從而達到激發(fā)態(tài)。共反應(yīng)劑ECL的機制包括“氧化還原”和“還原氧化”兩種路徑。以“氧化還原”ECL為例(圖2A),其反應(yīng)過程通常遵循三個步驟:
(1)電極表面的氧化反應(yīng);
(2)共反應(yīng)劑(如三正丙胺(TPrA))生成強還原自由基;
(3)共反應(yīng)劑自由基使氧化的發(fā)光中間體還原,產(chǎn)生激發(fā)態(tài)物種。
相應(yīng)的,在“還原氧化”路徑中(圖2B),共反應(yīng)劑(如S2O82-)產(chǎn)生強氧化自由基,該自由基進一步與還原態(tài)發(fā)光物種反應(yīng)生成激發(fā)態(tài)。
圖2. “氧化還原”(A)和“還原氧化”(B)共反應(yīng)劑型ECL機制
2. 電致化學發(fā)光裝置
ECLM成像裝置的核心部件包括電化學反應(yīng)池、電化學工作站、正置或倒置顯微鏡、以及CCD或EMCCD(圖3)。為提高圖像分辨率,通常會選用高數(shù)值孔徑(N.A.)的物鏡。
此外,信號發(fā)生器可作為輔助裝置,對電觸發(fā)與光采集進行同步。在成像操作中,關(guān)閉外部光源后,利用電位階躍或循環(huán)伏安法觸發(fā)電化學反應(yīng),同步采用CCD或EMCCD實時捕獲ECL圖像。
圖3. ECL 顯微成像系統(tǒng)的示意圖及典型裝置
從上世紀80年代至今,電致化學發(fā)光成像經(jīng)歷了蓬勃的發(fā)展。
1987年,Engstrom等報導了采用ECL成像直接觀測電極的邊緣效應(yīng)。由于電極邊緣的非線性擴散,在圓盤電極邊緣處成像出非均勻的電流密度[3]。同年,該課題組報導了異質(zhì)結(jié)構(gòu)電極表面電化學活性的ECL直接成像[4]。這是ECL成像首次應(yīng)用于電極電化學性能的表征。
1999年,Wightman課題組報導了在不同脈沖頻率下,電極表面ECL成像非均勻電流密度。通過調(diào)節(jié)脈沖寬度,在高曲率的位置可獲得更大的電流密度和可控的ECL光源[5]。近年來,隨著成像設(shè)備的提升,ECL成像可深入單分子、單顆粒和單細胞層面,并獲得微納界面動態(tài)信息。
2008年,Bard課題組在有機相中成像出單個25nm共軛聚合物納米粒子電子轉(zhuǎn)移過程中的動態(tài)信息,開啟了單體電致化學發(fā)光成像的先河[6]。法國波爾多大學Sojic課題組多年來一直致力于ECL成像與測量研究,他們報導了一種基于單個微米球的ECL反應(yīng)活性成像技術(shù)。這種3D成像方法提供了一種全新的模式用于ECL反應(yīng)機理研究及共反應(yīng)劑效能表征,對于篩選共反應(yīng)劑,提高分析靈敏度等方面都有著重要意義[7]。
2018年,徐靜娟教授團隊在60 nm單顆粒微納界面上開展電子傳遞和物質(zhì)遷移等過程的ECL成像。通過對異質(zhì)金屬雙面神(金-鉑結(jié)構(gòu))界面電化學反應(yīng)的實時成像,測得異質(zhì)結(jié)構(gòu)納米材料具有更高的催化轉(zhuǎn)化效率及穩(wěn)定性[8]。
2020年,浙江大學蘇彬教授報道了基于單晶分子線的電致化學發(fā)光波導,系統(tǒng)地研究了在電化學激發(fā)下,單個Ir(piq)3分子線的波導行為[9]。
圖4:基于單晶分子線的波導電致化學發(fā)光
2021年,浙江大學馮建東研究員課題組在Nature發(fā)表了研究論文,發(fā)展了一種單分子ECL成像技術(shù),對ECL中單個分子發(fā)射的單個光子的位置進行成像[13],并使用極稀釋的溶液來確保這些分子在空間上分開。該技術(shù)用于空間高斯擬合后可以打破光學衍射極限,使其成像分辨率媲美超分辨率熒光顯微鏡。
圖5:活體細胞的單分子ECL成像
上海大學趙微教授與南京大學徐靜娟教授聯(lián)合在JACS報道了基于發(fā)光徑向漲落的超分辨成像(SRRF)的超分辨ECLM[14]。通過連續(xù)采集寬場ECL圖像,并求解ECL信號漲落的徑向梯度變化實現(xiàn)超分辨成像。這種算法通過梯度收斂性逼近發(fā)光中心的真實位置,不需要特殊樣品及復(fù)雜裝置,且不需要數(shù)千幀的累計,在提高空間分辨率的同時,保持較高的時間分辨率,適用于動態(tài)過程成像。
圖6:單顆粒ECL-SRRF成像示意圖
電致化學發(fā)光成像歷經(jīng)數(shù)十年發(fā)展,機遇與挑戰(zhàn)并存。設(shè)計并合成高量子產(chǎn)率的發(fā)光試劑,降低成像背景提高測量靈敏度,以及進一步提升成像的空間與時間分辨率,是科研人員奮進的方向。毫無疑問,這種成像技術(shù)的進步會極大地推動其在應(yīng)用領(lǐng)域的發(fā)展,并幫助人們更多的了解科學和自然的本質(zhì)。
作為光學技術(shù)的先進制造商,Evident秉承Olympus持續(xù)推動最前沿科學技術(shù)進步的承諾,為電化學發(fā)光成像研究提供優(yōu)秀的顯微成像設(shè)備,尤其是數(shù)值孔徑高達1.5和1.7的超高分辨物鏡,特別適合單分子或者單顆粒電化學發(fā)光的弱信號檢測。
從左到右:UPLXAPO40XO,數(shù)值孔徑1.4
UPLAPO60XOHR,數(shù)值孔徑1.5
UPLAPO100XOHR,數(shù)值孔徑1.5
APON100XHOTIRF,數(shù)值孔徑1.7
針對電化學發(fā)光成像原理及易受環(huán)境光干擾等應(yīng)用特點,我們推出了IXplore Live for Luminescence — 單細胞發(fā)光成像解決方案(點擊查看詳情)。該系統(tǒng)采用簡約箱體式設(shè)計,高效避光,配合EMCCD高靈敏檢測器,輕松實現(xiàn)高信噪比、高分辨率的發(fā)光成像。高穩(wěn)定性成像系統(tǒng)配合高適應(yīng)性實驗設(shè)計,滿足各種樣品及應(yīng)用需求。